1.本实用新型涉及石英晶片生产设备领域，更具体地，涉及一种晶片的烘烤装置。
背景技术：
2.石英片，通常由石英熔炼并切割磨制而成，其二氧化硅含量可达99.99％以上。硬度为莫氏七级，具有耐高温、热膨胀系数低、耐热震性和电绝缘性能良好等特点。通常为无色透明类，可见光透过率85％以上。石英片的形成是由于其熔体高温黏度很高引起的结果。用于制作半导体、电光源器、半导通信装置、激光器，光学仪器，实验室仪器、电学设备、医疗设备和耐高温耐腐蚀的化学仪器、化工、电子、冶金、建材以及国防等工业，应用十分广泛，在使用过程中需要对石英进行装片。
3.在石英晶体生产制造过程中，需要经过一道烘烤的工序操作流程。烘烤装置是用于烤银胶的固化隧道炉，产品经过点胶工序，用银胶将晶片和陶瓷基座粘合在一起，经过固化隧道炉高温烘烤后，银胶变干硬后固定晶片在陶瓷基座内部。但现有的烘烤设备通常只是依赖传输带上放置待烘烤的晶片，对设备内一次烘烤的空间利用率低，导致能量和时间的浪费；而普通的叠加烘烤又容易因为晶片直接接触造成遮挡，导致烘烤受热温度不均匀，影响烘烤的效果。
技术实现要素：
4.有鉴于此，本实用新型的目的在于克服现有技术的不足，提供一种晶片的烘烤装置，在保证烘烤质量的同时，提高烘烤的效率。
5.为了解决上述技术问题，本实用新型采用如下方案实现：
6.一种晶片的烘烤装置，包括：加热装置、传输辊、基座平台和传输带，所述传输辊设置在所述基座平台的两侧，所述传输带设置在传输辊上，所述加热装置设置在基座平台上；还包括收纳盘支架，所述收纳盘支架用于放置收纳盘，所述传输带上设有网状孔，所述收纳盘支架通过网状孔与所述传输带形成活动连接。
7.通过双层设计，使得除传输带上放置收纳盘外，收纳盘支架还能多设置一层收纳盘的烘烤，实现烘烤效率的提高。
8.进一步的，所述传输带为金属的网状传输带。
9.所述金属传输带可以在加热装置加热时加快温度的传递，提高加热的效率，将传输带设置为网状，可以增加晶片的受热面积，增加热风的空气流动性，也方便与收纳盘支架底部通过固定插脚进行配合，形成活动连接，方便固定。
10.进一步的，所述收纳盘支架为金属结构。
11.收纳盒支架为金属结构，通过金属结构的设置可以加快热量的传递，受到高温加热也不易变形，增加承重。
12.进一步的，所述收纳盘支架包括多个整齐排列的子支架，所述子支架的宽度与收纳盘的宽度匹配，且长度小于所述收纳盘的长度。
13.所述收纳盘支架包括多个子支架，每个子支架的宽度小于所述收纳盘的长度。可将收纳盘竖置的放置在收纳盘上，并使收纳盘两端从收纳盘支架的两侧出露，方便收纳盘的放取，所述子支架的设置可使所述支架上多设置收纳盘进行加热烘烤，增加收纳盘加热烘烤的数量。
14.进一步的，所述收纳盘支架设有3至5个子支架。
15.所述子支架的设置使得收纳盘支架与收纳盘之间的配合度更高，每个都具有独立的位置减少了相互之间的干扰和空间的浪费，从而提高一次性加热烘烤的数量。
16.进一步的，所述收纳盘支架的两侧设有向外延展的凸沿，所述收纳盘支架长度与所述传输带的宽度匹配。
17.所述凸沿能够方便对收纳盘支架的取放，所述收纳盘支架的长度设置与所述传输带的宽度相匹配，能保证最大程度的对传输带有效空间的利用，而且对传输带施加的压力均匀，使得传输带运动过程中更平稳。
18.进一步的，所述收纳盘支架与所述传输带之间设置有容纳所述收纳盘的空间，所述空间的高度为所述收纳盘的厚度的1至3倍。
19.将支撑平面与所述传输带之间设置有能容纳所述收纳盘的空间，可以将所述收纳盘放置在支撑平面与所述传输带之间的空间中，与所述收纳盘支架平面上的收纳盘形成堆叠而不相互遮挡干扰的效果，在通过加热装置时，可以两层收纳盘同时进行加热烘烤，提高了加热烘烤的效率，又满足了产能的提升要求。将所述空间的高度设置大于所述收纳盘的厚度且小于3倍所述收纳盘的厚度，设置所述高度，能让收纳盘放入支撑平面下端的空间中，设置的高度过低，会导致收纳盘与支撑平台形成触碰，高度过高会导致空间的浪费。
20.进一步的，所述收纳盘的水平截面为矩形，所述收纳盘中间设有容纳晶片的容腔。
21.收纳盘矩形的设置是为了在有效平面内相互拼接的过程中更容易摆放均匀，在有效的空间中设置更多的可容纳晶片的容纳腔，提高收纳盘的利用率，提升经济效益。
22.进一步的，所述收纳盘支架的下部设有与所述网状孔配合的插脚。
23.所述插脚既能满足传输带水平移动过程中，使得收纳盘支架稳定地固定在传输带上的同时，也方便收纳盘支架的取放。
24.进一步的，所述加热装置设有在所述传输带的两侧。
25.所述收纳盘通过传输带运动到加热装置处，所述加热装置通过两侧吹风的方式对收纳盘进行加热，两侧吹风加热可以利用支撑平台上收纳盘与传输带上放置的收纳盘之间形成的空腔对所述两层收纳盘进行加热烘烤，提高加热的工作效率。
26.与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：通过在传输带上设置收纳盘支架，收纳盘支架上可用于放置收纳盘，收纳盘底部设置有固定插脚，所述传输带上设有网状孔，所述收纳盘支架底部的固定插脚通过网状孔与所述传输带形成活动连接，以达到对晶片双层加热烘烤且互不干扰，保证质量的同时提高烘烤效率。
附图说明
27.图1是本实用新型的一种晶片的烘烤装置俯视结构示意图；
28.图2是本实用新型的一种晶片的烘烤装置左视结构示意图；
29.图3是本实用新型的一种晶片的烘烤装置的收纳盘支架立体结构示意图；
30.图4是a处的局部放大图。
31.附图标记说明：加热装置1、传输辊2、传输带3、基座平台4、收纳盘支架5、边缘部6、支撑部7、连接部8、子支架9、固定插脚10。
具体实施方式
32.本发明附图仅用于示例性说明，不能理解为对本发明的限制。为了更好说明以下实施例，附图某些部件会有省略、放大或缩小，并不代表实际产品的尺寸；对于本领域技术人员来说，附图中某些公知结构及其说明可能省略是可以理解的。
33.实施例1
34.如图1和图2所示，为本实施例是一种晶片的烘烤装置，包括：加热装置1、传输辊2、基座平台4和传输带3，所述传输辊2设置在基座平台4的两侧，所述传输带3设置在传输辊2上，所述加热装置1设置在基座平台4上；还包括收纳盘支架5，所述收纳盘支架5用于放置收纳盘，所述传输带3上设有网状孔，所述收纳盘支架5通过网状孔与所述传输带3形成活动连接。
35.所述加热装置1为高热的风机吹风加热，且对称设置在基座平台4的中部，所述传输辊2为长条的圆筒形状横向设置在所述基座平台4的前端，所述传输辊2靠电机带动运转，所述传输辊2可正向转动，也可反向转动，所述传输带3设置在所述基座平台4上，所述传输辊2的转动可带动所述传输带3移动，将收纳盘放置在所示传输带3上，开启电源电机工作，电机工作带动所示基座平台4上前端横向设置的所示传输辊2转动，所述收纳盘放置在所示传输带3上，靠所述收纳盘底部和传输带3上的摩擦力跟随传输带3向前移动，当所示收纳盘移动到对称设置的加热装置1处时，加热装置1开始工作，通过两侧加热装置1同时向所示收纳盘进行吹风加热以达到加热烘烤的目的，当所示收纳盘经过加热装置1烘烤后，所述电机带动所述传输辊2反向转动，所述传输辊2的转动带动所述传输带3移动将所述传输带3上的收纳盘移动出加热区域。所述烘烤装置还包括收纳盘支架5，所述收纳盘支架5设置在传输带3上，所述收纳盘支架5为长条的矩形，可在所述收纳盘支架5上竖向放置多个收纳盘，通过收纳盘支架5底部的固定插脚10与传输带3上的网状孔进行相互配合形成活动连接关系，起到对所述收纳盘支架5固定的作用。
36.所述传输带3设置为金属的网状传输带。所述金属传输带与所述基座平台4宽度相当，所述金属网状的大小约大于所述收纳盘支架5底部的固定插座的大小，这样的大小设置能将所述收纳盘支架5稳定固定在金属的网状传输带上，形成活动连接关系，方便固定，不易滑动。所述网状的设置能够增加加热装置1吹风加热的空气流动性，增加收纳盘的受热面积，提升所述收纳盘上晶片的温度，所述网状金属设置可以在加热装置1加热时加快温度的传递，提高加热的效率。
37.所述收纳盘支架5为金属结构。所述收纳盘支架5为长条的矩形，通过设置在两侧的横向的且相互平行的水平支撑部7和所述在两侧竖向设置的且相互平行的水平边缘部6共同固定连接形成收纳盘支架5的金属框架，所述收纳盘支架5金属框架边框面积大约2-3厘米，如所述金属边框面积过大，会导致放在收纳盘支架5上的收纳盘被所述收纳盘支架5遮挡，导致收纳盘不能被加热装置1完全加热。如所述金属边框面积过小，会导致放在收纳盘支架5上的收纳盘不能被稳定的放置在所述收纳盘支架5上，形成滑落。如图4所示，所述
收纳盘支架5下端设置有固定插脚10，所述固定插脚10插入所述金属的网状传输带上的网状中，两者形成相互配合，形成活动连接关系。使其将所述收纳盘支架5固定在金属的网状传输带上。所述收纳盒支架为金属结构，通过金属结构的设置可以加快热量的传递，受到高温加热也不易变形。
38.如图3所示，所述收纳盘支架5中部的镂空空间设置有与所述边缘部6相互平行的连接部8，将所述收纳盘支架5平均划分为几个相同的子支架9，所述每个子支架9的宽度小于所述收纳盘的长度。所述收纳盘支架5包括多个子支架9，可将收纳盘竖置的放置在收纳盘上，并使收纳盘两端从收纳盘支架5的两侧出露，方便收纳盘的放取，划分相同的所述子支架9的设置可使所述支架上多设置收纳盘进行加热烘烤，增加收纳盘加热烘烤的数量。
39.所述收纳盘支架5两侧的边缘部6皆设置有两侧向外凸出的凸沿，所述凸沿方向与所述收纳盘支架5边缘部6的延展方向一致，所述凸沿能够方便对收纳盘支架5的取放，所述收纳盘支架5的长度设置与所述传输带3的宽度相匹配，所述收纳盘支架5宽度多长会导致所述收纳盘支架5不能顺利的通过加热装置1，导致不能加热烘烤，所述收纳盘支架5宽度过短，会导致大量浪费传输带3上的有效空间，造成一次性通过加热装置1的收纳盘数量过少。
40.所述收纳盘支架5设置有3-5个所述子支架9。所述子支架9的设置是为了将更加的收纳盘放置在收纳盘支架5上，避免所述收纳盘乱放至收纳盘支架5上，浪费收纳盘支架5的有效空间，这样规定空间的设置子支架9，能实现一次性加热烘烤多个收纳盘的效果，提高了加热烘烤的效率，又满足了产能的提升要求。
41.所述收纳盘支架5平面与所述传输带3之间设置有容纳所述收纳盘的空间，所述空间的高度大于所述收纳盘的厚度且小于3倍所述收纳盘的厚度。通过所述收纳盘支架5下端的固定插脚10与所述金属网状传输带相互配合形成所述收纳盘支架5和所述金属网状传输带之间的收纳空间，可以将所述收纳盘放置在收纳盘支架5平面与所述传输带3之间的收纳空间中，与所述收纳盘支架5平台上的收纳盘形成堆叠效果，在通过加热装置1时，可以两层收纳盘同时进行加热烘烤，提高了加热烘烤的效率，又满足了产能的提升要求。将所述空间的高度设置大于所述收纳盘的厚度且小于3倍所述收纳盘的厚度，设置所述高度，能让收纳盘放入支撑平面下端的空间中，设置的高度过低，会导致收纳盘与支撑平台形成触碰，高度过高会导致空间的浪费。
42.所述收纳盘的水平截面为矩形，所述收纳盘的长度大于所述收纳盘支架5的宽度，所述收纳盘的宽度小于所述收纳盘支架5中子支架9的长度，所述这样的设置能够将所述收纳盘稳定的放置在所述收纳盘支架5上，不易掉落。所述收纳盘中间设有排列容纳晶片的容纳腔。所述收纳腔为规则的矩形，所述收纳腔呈现矩阵形状整齐的排列在所述收纳盘中间，规则的排列能够有效的利用收纳盘中间的有效面积，将有效的空间中设置更多的可容纳晶片的容纳腔，提高收纳盘的利用率，提升经济效益。
43.显然，本发明的上述实施例仅仅是为清楚地说明本发明技术方案所作的举例，而并非是对本发明的具体实施方式的限定。凡在本发明权利要求书的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本发明权利要求的保护范围之内。