专利名称：离子源专用清洗剂的制作方法
技术领域：
本发明涉及一种清洗剂，尤其涉及一种离子源专用清洗剂。
背景技术：
离子源是使中性原子或分子电离，并从中引出离子束流的装置。它是一种流强大产额高的离子源各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子束刻蚀装置、离子推进器以及受控聚变装置中的中性束注入器等设备的不可缺少的部件。目前，并没有一种专用的清洗剂对该仪器进行清洗。
发明内容
为克服现有技术的不足，本发明所要解决的技术问题提供一种离子源专用清洗齐u，洗涤效果好，仪器上残留少。本发明所要解决的技术问题是通过如下技术方案实现的一种离子源专用清洗剂，由下述组分按质量份组成乙二胺四乙酸二钠 20份；磷酸钠10份；十二烷基苯磺酸钠 6份；丙酮50份；碳酸氢钠55份；烷基苄基氧化铵 6份；聚丙烯酰胺20份；椰子油酰胺丙基甜菜碱6份。按照上述配比充分混合均勻，配置成该清洗剂。使用时，加入10倍的水，稀释成溶液即可进行清洗。采用本发明的清洗剂，对离子源洗涤效果好，离子源仪器上残留少。
具体实施例方式下面结合实施例对本发明作进一步描述。一种离子源专用清洗剂，由下述组分组成乙二胺四乙酸二钠 20克；磷酸钠10克；十二烷基苯磺酸钠 6克；丙酮50克；碳酸氢钠55克；烷基苄基氧化铵6克；聚丙烯酰胺20克；椰子油酰胺丙基甜菜碱6克。
按照上述配比充分混合均勻，配置成该清洗剂。使用时，加入10倍的水，稀释成溶液即可进行清洗。采用本发明的清洗剂，洗涤效果好，仪器上残留少。
权利要求
1. 一种离子源专用清洗剂，由下述组分按质量份组成 乙二胺四乙酸二钠 20份； 磷酸钠10份；十二烷基苯磺酸钠 6份； 丙酮50份；碳酸氢钠阳份；烷基苄基氧化铵 6份； 聚丙烯酰胺20份；椰子油酰胺丙基甜菜碱6份。
全文摘要
本发明公开一种离子源专用清洗剂，由下述组分按质量份组成乙二胺四乙酸二钠20份；磷酸钠10份；十二烷基苯磺酸钠6份；丙酮50份；碳酸氢钠55份；烷基苄基氧化铵6份；聚丙烯酰胺20份；椰子油酰胺丙基甜菜碱6份。采用本发明的清洗剂，对离子源洗涤效果好，离子源仪器上残留少。
文档编号c11d3/60gk102533463sq20101061915
公开日2012年7月4日 申请日期2010年12月30日 优先权日2010年12月30日
发明者宋国新 申请人:宋国新